日本光刻胶四大厂供应能力监测（上）：2026年产能扩产全景与卫星遥感佐证
写在前面（全文约3300字）
2026年6月，以东京应化（TOK）、信越化学（Shin-Etsu）为代表的日系光刻胶厂商陆续被媒体报道已停止接受对华ArF等高端光刻胶新订单，但同一时期，这几家厂商却纷纷传出逆势扩产的消息。信越化学56年来首座日本新厂竣工、东京应化福岛郡山工厂即将投运、JSR在韩国建设EUV金属氧化物光刻胶（MOR）基地、富士胶片熊本/静冈同步扩。一边扩产、一边对华收紧，看似针锋相对，实则并行不悖：扩产主要服务全球先进制程需求，而对中国大陆市场的高端光刻胶供应则因出口管制持续收紧。本文上半篇主要聚焦“监测到了什么”，给出四大厂商2026年产能扩充事实。
一、全球格局：日本企业仍主导全球高端光刻胶市场
光刻胶是半导体光刻工序的核心耗材，按光源波长分为i-line（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm，含浸没式）和EUV（13.5nm）。制程越先进，对光刻胶的分辨率、灵敏度、线边粗糙度（LER）要求越高，供应商集中度也越高。Grand View Research 估计，2024年全球光刻胶市场规模约49.6亿美元，2030年有望达到67.0亿美元，年复合增长率约5.24%。
全球光刻胶市场规模（2024–2030E）
市场份额方面，日本企业的统治地位依然稳固。Intel Market Research指出，2024年日本企业在全球半导体光刻胶市场占比约75%（不同机构估计在75%–90%不等）；QYResearch数据显示，EUV高端光刻胶市场高度集中，前五大厂商合计占据绝大部分份额。这意味着，在7nm及以下先进制程，全球先进晶圆厂所使用的关键光刻材料几乎由少数日本企业掌握。
日本企业在全球光刻胶市场的份额高度集中
参考来源：
<https://www.grandviewresearch.com/industry-analysis/photoresist-market-report>
<https://www.intelmarketresearch.com/photoresists-market-36263>
<https://www.qyresearch.com.cn/news/18459/euv-photoresist>
二、2026 年产能监测结果：四大厂扩产而非收缩
结合公开资料显示：2024–2028年间，日本光刻胶头部企业正在集中扩产，以应对AI芯片、2nm先进制程与先进封装带来的需求激增。下表汇总了四大厂及主要日本同业的关键扩产项目。
| | | | | | |-------------|---------------------|---------------------|------------------------|-----------------------------------------| | 企业 | 项目/地点 | 投资额 | 预计投产/竣工 | 主要产品 | | 信越化学 | 群马县伊势崎市 | 约830亿日元 | 2026年4月竣工 | KrF/ArF/EUV光刻胶、多层膜材料 | | 东京应化TOK | 福岛县郡山市 | 未披露（在建） | 2026年 | KrF/EUV光刻胶（拟成日本最大光刻胶工厂） | | 东京应化TOK | 韩国平泽 | 约200亿日元 | 规划中（未披露投产年） | 供应三星/SK海力士 | | JSR | 韩国清州市 | 未披露 | 2026年底 | EUV金属氧化物光刻胶（MOR） | | 富士胶片 | 静冈县+熊本县 | 3年合计超1000亿日元 | 2025秋起 | EUV光刻胶（熊本产能提升约30%） | | 住友化学 | 大阪此花区+韩国天安 | 现有产能 | 已运行 | ArF/KrF/i-line光刻胶 |
日本光刻胶四大厂2024–2028扩产项目时间轴
2.1 信越化学：伊势崎工厂竣工，56年来首座日本新厂
2026年4月3日，信越化学在群马县伊势崎市举行尖端半导体材料新基地竣工仪式。该基地占地约15万平方米，一期投资约830亿日元，2026年4–6月开始出货样品并逐步取得客户认证。产品预计包括KrF、ArF及EUV用光刻胶和多层膜材料，将供应日本本土、韩国、美国及中国台湾地区等市场。值得注意的是，这是信越化学自1970年鹿岛工厂以来，56年来首次在日本国内新建生产基地。
信越化学伊势崎工厂（图片来源：信越化学官网）
信越化学伊势崎工厂卫星影像（2026年1月30日，红色是厂区范围）
2.2 东京应化TOK：郡山工厂扩建与韩国基地布局
东京应化正在福岛县郡山市扩建郡山工厂，新建一座先进光刻胶生产设施，预计2026年下半年投产，目标成为日本最大光刻胶制造工厂。该项目主要生产KrF、ArF及EUV光刻胶，以满足AI半导体与先进制程需求。同时，TOK计划在韩国投资约200亿日元建设生产基地（新平泽工厂），强化对韩国晶圆厂的本地响应能力。
东京应化郡山工厂新建光刻胶生产设施卫星影像（2025年4月26日，红色是厂区范围）
东京应化韩国子公司新平泽工厂（计划2027年下半年开始运营，图片来源：东京应化官网）
2.3 JSR：韩国清州EUV MOR生产基地，计划2026年底量产
2024年11月，JSR在韩国忠清北道清州市举行EUV金属氧化物光刻胶（MOR）工厂奠基仪式。该工厂由JSR Micro Korea建设，计划2026年完成并量产，主要向三星电子和SK海力士供应。MOR被视为替代传统化学放大光刻胶（CAR）的下一代EUV材料，适合更高分辨率图案化。JSR在2021年收购美国Inpria公司后开始推进MOR商业化，韩国工厂将成为JSR首个面向商业化量产的EUV MOR生产基地。
JSR Micro Korea工厂卫星影像（2023年4月22日，红色为厂区范围）
JSR Micro Korea工厂卫星影像（2026年6月13日，红色为厂区范围，蓝色为疑似新建EUV MOR工厂，截止目前，尚未有公开资料显示工厂完工状态）
2.4 富士胶片：熊本+静冈 扩产，强化九州半导体产业链配套能力
富士胶片计划在截至2027年3月的三年内，向半导体材料业务投资超过1000亿日元，金额约为前一个三年的两倍。2025年秋季，富士胶片在静冈县启用先进制程及新一代半导体研发评价大楼，并在韩国平泽基地引进新生产设备开始量产。熊本基地（菊阳町）则负责扩大EUV光刻胶产能，计划提升约30%（据富士官方公告），以满足九州地区先进晶圆厂（包括JASM等）的需求。
2025年11月，富士胶片静冈工厂新启用的研发评价大楼（图片来源：富士胶片官网）
富士胶片静冈工厂卫星影像（2026年2月9日，红色为厂区范围，黄色为新启用研发评价大楼，蓝色为2025年新建停车场设施）
富士胶片熊本工厂卫星影像（2025年3月25日）
参考来源：
<https://www.chemicaldaily.cn/?p=141055>
<https://icspec.com/news/article-details/2516126>
<https://i.ifeng.com/c/8b8e50xXlMO>
<https://www.theinvestor.co.kr/view.php?ud=20241112050726&ACE_MAIN=2>
<https://apps.digitimes.com/news/a20241119PD214/jsr-photoresist-euv-plant-japan.html>
<https://www.trendforce.com/news/2025/11/06/news-japan-ramps-up-photoresist-investment-for-2nm-chips-tokyo-ohka-kogyo-jsr-lead-the-charge>
<https://weibo.com/ttarticle/p/show?id=2309405127022006632828>
<https://www.fujifilm.com/jp/en/news/hq/11842>
<https://www.sumitomo-chem.co.jp/english/products/electronic/>
<https://www.tok.co.jp/eng/news/2025/250806_5>
三、供需判断：扩产能否跟上AI与2nm需求？
扩产并不意味着过剩。本轮扩产的动力来自三方面：
一是AI芯片（GPU、HBM、先进封装）对7nm以下制程的需求激增；
二是台积电、三星、英特尔、Rapidus的2nm/3nm产线陆续进入量产前夜；
三是CoWoS、3D IC等先进封装工艺提升了光刻工艺使用频次，进一步拉动高端光刻胶需求。
四大厂的扩产节奏集中在2026–2027年释放，预计全球光刻胶市场仍将维持“紧平衡”状态。
风险点在于，扩产项目高度集中于日本本土和韩国。若日本本土遭遇自然灾害、政策管制或原材料供应扰动，全球先进制程的光刻胶供应弹性仍十分有限。
四大厂商高端光刻胶（EUV/ArF/KrF/i-line）产品覆盖矩阵
参考来源：
<https://so.html5.qq.com/page/real/search_news?docid=70000021_4846a06af6178452>
<https://www.tok.co.jp/eng/products/semiconductor-pre>
<https://www.shinetsu.co.jp/en/products/electronics-materials/photoresist/>
四、卫星遥感佐证产能变化
卫星遥感提供了独立的物理侧证数据。针对光刻胶工厂，采用高分辨率光学卫星影像识别厂区停车场车辆数量，可间接反映产线开工强度与人员到岗情况。本节以富士胶片静冈工厂东侧停车场为例，选取2020年6月至2026年2月间6期亚米级卫星影像，进行车辆计数与占用率分析。
| | | | | | |--------------|----------------------|--------------------|---------------------|------------------------------------------------| | 影像日期 | 实际车辆数（辆） | 总车位数（个） | 车位占用率（%） | 厂区运行状态评估 | | 2020-06-05 | 188 | 247 | 76.1 | 正常工作日，厂区高负荷运转 | | 2021-03-17 | 190 | 247 | 76.9 | 正常工作日，出勤率极高，车位相当紧张 | | 2023-05-04 | 12 | 247 | 4.9 | 黄金周假期，仅保留少数值班或留守车辆 | | 2024-04-14 | 8 | 247 | 3.2 | 周日公休，厂区处于低能耗值班状态 | | 2025-02-07 | 216 | 247 | 87.4 | 监测期内最高，厂区几乎全员满负荷运转，基本停满 | | 2026-02-09 | 180 | 247 | 72.9 | 正常繁忙工作日，车位利用率处于高位 |
富士胶片静冈工厂东侧停车场6期卫星影像检测车辆对比（2020–2026，绿色框为车辆识别结果）
从监测结果看，富士胶片静冈工厂东侧停车场占用率整体与产能扩张节奏保持一致。2020—2021年工作日占用率稳定在76%左右，反映工厂维持较高负荷运行；2023—2024年影像分别对应黄金周和周日，车辆仅12辆和8辆，占用率不足5%，属于节假日值班状态，不宜作为产能变化依据。2025—2026年，占用率恢复至72.9%—87.4%，其中2025年2月达到216辆、占用率87.4%，与静冈工厂扩建先进制程及EUV光刻胶产能的时间节点相吻合。2026年老停车场车辆虽降至180辆，但由于2025年新增停车场投入使用（2.4节静冈工厂卫星影像中已标出的“2025年新建停车场设施”），车辆出现分流，因此这一变化更能说明厂区配套设施持续扩建，而非产能收缩。
富士胶片静冈工厂东侧停车场车辆数与车位占用率变化（2020–2026）
卫星遥感显示的高负荷运行状态，与扩产项目落地相吻合，也说明对华供给收紧源于市场和政策选择，而非产能不足。
需要说明的是，卫星遥感监测车辆计数受影像时相（工作日/节假日）、天气、拍摄角度及停车场局部施工等因素影响，单期影像不能直接代表产能水平，但多期时序数据仍可有效反映工厂运行状况，并与扩产公告、海关出货数据相互印证。
五、结论与展望
1）监测结果：2026年，日本光刻胶行业整体呈现“全球扩产、对华收紧”并行态势，新增产能主要面向海外先进制程市场，而非中国大陆。信越伊势崎、TOK郡山、JSR韩国清州、富士熊本/静冈四大项目将陆续释放产能。
2）监测方法：卫星遥感可作为独立信源，与海关数据、企业出货数据交叉验证，持续追踪产能落地和利用率变化。
3）产能去向：扩产高度围绕AI、2nm/3nm、先进封装与韩国/美国等大客户展开，对中国大陆的供给能力在短期内更多取决于贸易政策而非产能本身。
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—— 转载自 SpaceMV问道公众号，署名：SpaceMV问道